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温阿利; 朱基亮; 范平; 马海亮; 张乔丽; 袁大庆;
中国原子能科学研究院;
北京102413;
四川大学;
四川成都610064;
CaCu3Ti4O12陶瓷; Al、Nb共掺; 高介电常数; 内阻挡层电容; 正电子湮没;
机译:CACU3TI4O12中高能球 - 铣削缺陷的正电子湮没光谱调查
机译:PD(II)的催化机理@PVA膜催化剂由正电子湮没光谱从分子水平微缺陷的研究方面研究
机译:XE〜(14 +)200 MeV离子辐射下(TizrhFNBV)N氮化物涂层缺陷结构的正电子湮没研究
机译:Nb和Sn对符合正电子湮没光谱研究的Tial合金D电子的影响
机译:掺锆硅酸锂玻璃和玻璃陶瓷,掺锆硼酸锂玻璃和玻璃稀土磷酸盐的X射线吸收光谱研究。
机译:铁氧体金属共烧陶瓷的超低渗透阈值带来高磁导率和高介电常数
机译:基于CaCu3Ti4O12的高介电常数陶瓷材料的研究
机译:正电子湮没研究陶瓷和薄膜pb(Zr,Ti)O3材料中的空位相关缺陷
机译:用于正电子湮没特性的测量装置和测量方法
机译:用于测量正电子湮没寿命的装置,调整辐射测量仪的方法,以及辐射测量仪
机译:高介电常数型陶瓷组合物,主要由Pb(Fe.sub.1 / 2 Nb.sub.1 / 2)O3-sub-Pb(Mg.sub.1 / 3 Nb.2 / 3)O组成Sub.3-Pb(Mg.sub.1 / 2 W.sub.1 / 2)O.sub.3
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