ATE应对90nm及以下节点良率问题

摘要

正如2007版国际半导体技术蓝图（ITRS）所提到的,自动测试设备（ATE）所面临的最紧迫的技术挑战便是“促进良率提高的测试”,特别是对于90、65、45nm和未来工艺节点上的晶圆工艺和器件良率学习。