基片下磁场磁控对溅射辉光及薄膜梯度的影响

摘要

溅射时在基片下方放置磁铁,让来自基片下方的磁场发挥磁控作用,以此来研究基片下磁场磁控溅射的方法.发现辉光形貌以及沉积的薄膜厚度分布均发生明显变化的同时,辉光的外形也随着外加磁铁直径的变化而变化.运用磁荷理论对空间磁场分布进行模拟,解释了辉光形貌变化的机理;运用沉积粒子在外加梯度磁场中运动理论解释了膜厚分布.