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直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较

         

摘要

对直流磁控溅射Si和玻璃衬底[Cot/Fe3t]5(t=2,3,4,5 nm)多层膜的磁性能进行了比较.对于t相同但衬底不同的样品,实验发现饱和磁化强度相差很小,但是矫顽力却相差很大.对矫顽力差异的理论分析表明,多层膜的粗糙度和畴壁类型是引起这种差异的主要原因.

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