The University of Texas at Austin;
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:气相和液相UV光化学在常规和浸没式193 nm平版印刷中的作用的数值分析
机译:193 nm正性光刻的液相和气相甲硅烷基化工艺比较
机译:深紫外光致抗蚀剂技术中的问题:用于248和213 nm光刻的本体和表面成像抗蚀剂的表征和建模。
机译:熄灯!带涂层的有源悬臂探针在不透明液体环境中对样品表面进行纳米尺度的地形成像
机译:使用液相甲硅烷基化的I线抗蚀剂的顶表面成像光刻工艺
机译:等离子沉积的甲硅烷基化抗蚀剂用于193nm光刻