基于应力——光学定律的膜基结构应力分析方法研究

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第一章 绪 论

1.1 研究背景及意义

1.2 膜基结构应力分析方法发展现状

1.3 基于应力-光学定律的应力分析方法发展现状

1.4 本文研究工作的主要内容

第二章 基于应力-光学定律的膜基结构应力分析系统

2.1 膜基结构应力分析的理论基础

2.2 膜基结构应力分析实验系统设计

2.3 实验系统光路原理

2.4 实验图像处理的基本原理

2.5 实验系统的随机误差分析

2.6 本章小结

第三章 聚酰亚胺薄膜应力分析实验研究

3.1 聚酰亚胺薄膜试件的制备

3.2 聚酰亚胺薄膜应力光学系数的测量

3.3 有孔聚酰亚胺薄膜试件应力分析

3.4本章小结

第四章 膜基结构应力分析实验研究

4.1膜基结构试件的制备

4.2 纳米级铜膜应力光学系数的测量

4.3 有孔膜基结构试件应力分析

4.4本章小结

第五章 总结与展望

5.1 总结

5.2 展望

参考文献

发表论文和参加科研情况说明

致谢