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第一章概述
1.1高电荷态离子的特性及用途
1.2高电荷态离子的产生
1.2.1自然界中的高电荷态离子
1.2.2加速器产生的高电荷态离子
1.2.3离子源产生的高电荷态离子
1.3高电荷态离子与固体相互作用的过程
1.4高电荷态离子物理的研究进展
1.4.1高电荷态离子与固体相互作用实验
1.4.2高电荷态离子与固体作用的理论模型
1.5课题的提出
第二章等离子体分析和溅射实验的装置
2.1 ECR源和溅射实验介绍
2.1.1 ECR源工作原理
2.1.2溅射试验设备
2.1.3靶材料的制备:
2.2 EBIT系统介绍:
2.2.1 EBIT的工作原理:
2.2.2气体注入系统:
2.2.3 X射线探测系统:
2.2.4供电系统:
2.2.5离子引出和离子分辨系统:
2.3 Wien filter分析系统的测试
2.3.1 Wien filter的原理
2.3.2 Wien filter实验结果
2.3.3 Wien filter的控制和解谱软件
第三章束流的引出和诊断
3.1电子束离子阱中的等离子体分布
3.1.1电子束的空间电势
3.1.2离子在电子束离子阱中的分布
3.1.3离子在阱区的温度分布和传递
3.2离子源参数对束流的影响
3.2.1电子能量与电子束流密度的关系
3.2.2电子能量对输出离子强度的影响
3.2.3阱区的气压对束流输出
3.2.4势阱深度对束流强度的影响
3.2.5引出电压对输出总电流的影响
3.3高电荷态离子诊断
3.3.1通过X射线鉴别高电荷态离子
3.3.2离子的电荷态随时间演化
第四章溅射实验
4.1 Arq+/pbq+离子轰击固体表面引发的溅射实验
4.1.1 Arq+/pbq+离子轰击半导体表面引发的溅射产额的角分布
4.1.2溅射产额与入射离子能量关系
4.1.3溅射产额与离子势能的关系
4.1.4高电荷态离子与低电荷态离子溅射产额之比
4.2理论分析与讨论
4.2.1动能势能共同作用模型
4.2.2动能势能共同作用模型与实验结果对比
4.3模型成功和不足
第五章全文总结
附录1 Wien Filter 控制和解谱软件界面
参考文献
发表论文
致谢
兰州大学;