基于位相掩模的动态近场全息光刻法制作软X射线变间距光栅

目录

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摘要

第一章 绪论

1．1引言

1．2软X射线平焦场光栅光谱仪

1．2．1概述

1．2．2软X射线平焦场光谱仪的应用

1．3软X射线变间距光栅的研究现状

1．3．1软X射线变间距光栅的设计

1．3．2变间距光栅的研制

1．4选题意义与论文构成

第二章利用近场全息方法制备软X射线变间距光栅的相关优化设计

2．1引言

2．2软X射线变间距光栅设计

2．2．1软X射线变间距光栅线密度分布设计

2．2．2软X射线变间距光栅槽形参数设计

2．2．3小结

2．3近场全息用熔石英掩模的设计

2．3．1熔石英掩模线密度分布设计

2．3．2熔石英槽形结构设计

2．4电子束光刻与近场全息的误差分析及补偿方法

2．4．1电子束光刻制备熔石英掩模的误差分析

2．4．2近场全息误差分析

2．4．3电子束光刻-近场全息过程误差补偿

2．5掩模翻制

2．6本章小结

第三章动态近场全息曝光方法研究

3．1引言

3．2动态曝光原理

3．2．1动态曝光实验装置

3．2．2动态曝光抑制位相掩模拼接误差图形的基本原理

3．2．3莫尔条纹监控动态曝光原理及精度分析

3．3光刻胶光栅的表征结果

3．3．1光刻胶光栅随机缺陷抑制

3．3．2光刻胶光栅拼接误差抑制

3．3．3光刻胶光栅远场衍射图

3．4本章小结

第四章近场全息制作的软X射线变间距光栅

4．1引言

4．2近场全息制作软X射线变间距光栅实验

4．3光栅参数设计

4．4镀金软X射线光栅形貌分析

4．4．1基于原子力显微镜图的光栅边界提取

4．4．2线条边沿粗糙度计算

4．4．3动态样品与静态样品的LER对比分析

4．5镀金软X射线变间距光栅制作

4．6同步辐射测试

4．6．1光栅衍射效率

4．6．2光栅锥角衍射峰

4．6．3杂散光

4．6．4高次谐波

4．7本章小结

5．1前言

5．2测试系统

5．3测试误差分析与实验结果

5．4适用范围

5．5软X射线变间距光栅线密度测试及成像模拟

5．5．1成像特性理论模拟

5．5．2光栅线密度分布测试

5．5．3调整光谱仪参数补偿近场全息光栅制作误差

5．5本章小结

第六章总结与展望

6．1论文工作总结

6．2论文创新点

6．3论文展望

参考文献

附录

致谢

在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果