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唐鑫;
西南交通大学;
高功率; 脉冲磁控溅射; 制备; 氮化钛; TiN; 薄膜; 应力释放;
机译:离子能量对高功率脉冲磁控溅射沉积的氮化钛薄膜微观结构和性能的影响
机译:通过混合高功率脉冲磁控溅射/直流磁控溅射沉积技术制备的低摩擦CrN / TiN多层涂层
机译:高功率脉冲磁控溅射和脉冲氧气流量控制制备的硬质和光学透明HfO2薄膜的微观结构
机译:高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)沉积高电导率ITO薄膜
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:时间分辨测量反应性高功率期间的薄膜生长 氮化钛脉冲磁控溅射(HIpIms)
机译:分子氮中脉冲激光烧蚀制备高掺杂p型ZnTe薄膜
机译:制造薄膜太阳能电池的方法,涉及通过在脉冲期间具有特定脉冲频率和功率密度的脉冲磁控溅射在保护层上沉积透明导电氧化物层作为前接触层。
机译:高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)的闪频抑制和脉冲
机译:SP3高功率脉冲磁控溅射工艺,可实现高密度,高SP3含量的层
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