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张海涛; 刘忠伟; 陈强;
中国力学学会;
中国物理学会;
中国核学会;
半导体薄膜; P型氧化锌; 氮掺杂; 磁控溅射;
机译:在环境温度下制备的透明导电AL掺杂ZnO薄膜的高速反应性高功率脉冲磁控溅射
机译:反应性高功率脉冲磁控溅射在室温下沉积均匀,高透明且导电的Al掺杂ZnO薄膜
机译:P型氧化亚铜薄膜,具有高功率脉冲磁控溅射沉积的高电导率
机译:磁控溅射制备的N掺杂p型ZnO薄膜的光致发光光谱缺陷分析
机译:用于互连金属化的高功率脉冲磁控溅射和调制脉冲功率溅射的比较。
机译:高功率脉冲磁控溅射
机译:高功率脉冲磁控溅射沉积铝掺杂ZnO薄膜
机译:分子氮中脉冲激光烧蚀制备高掺杂p型ZnTe薄膜
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积ICP-CVD设备,使用ICP-CVD设备制造没有任何掺杂工艺的P型ZnO薄膜的系统和方法以及光功率化合物半导体
机译:电感耦合等离子体化学气相沉积(ICP-CVD)设备,系统和方法,用于通过使用ICP-CVD设备和光功率复合半导体在没有任何掺杂过程的情况下制造p型Zno薄膜
机译:SP3高功率脉冲磁控溅射工艺,可实现高密度,高SP3含量的层
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