CH_4/H_2系统电子助进化学气相沉积气相过程研究

摘要

本工作采用蒙特卡罗(Monte-Carlo)计算机模拟的方法，对以CH_4／H_2为源气体的电子助进化学气相沉积(EACVD)金刚石薄膜中的气相分解过程进行了研究，初步建立了EACVD气相动力学模型，并讨论了EACVD中的低温沉积过程。主要结果如下：平均电子能量随着反应室内气压的增加呈下降趋势；在较低气压范围内平均电子能量随着反应源气体中甲烷浓度的增加而减少；在较高气压范围内平均电子能量则随着甲烷浓度的增加而增加；随着气压的增加碎片H和CH_3的数目并不是一直增加的，而是在不同的特定气压下出现各自的最值；碎片携带的能量基本随甲烷浓度和气压的增加而减小。所得结果对于EACVD合成金刚石薄膜中实验参数的选择及低温下合成高质量的金刚石薄膜具有重要的意义；同时，对于定量地研究各种实验条件对EACVD沉积金刚石的影响具有重要的参考价值。

目录

摘要

Abstract

第一章 引言

第二章 直流电场中甲烷分子的分解

第三章 CH_4／H_2为源气体的EACVD气相过程

第四章 低温沉积金刚石薄膜机理的研究

第五章 结束语

参考文献

致谢