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华南理工大学学位论文原创性声明及学位论文版权使用授权书
第一章绪论
1.1有机电注入激光器
1.2有机薄膜晶体管的发展现状
1.3高介电常数栅绝缘层
1.3.1钙钛矿相氧化物
1.3.2金属氧化物栅介质
1.4课题研究的内容和特点
第二章相关理论
2.1场效应晶体管的基本结构和机理
2.1.1金属-绝缘层-半导体场效应管(MISFET)
2.1.2金属半导体场效应管(MESFET)
2.1.3薄膜晶体管(TFT)
2.5本章小结
第三章OFET的制备技术
3.1有机场效应管的制备技术
3.1.1真空技术
3.1.2溶液处理成膜技术
3.1.3单晶技术
3.2射频磁控溅镀系统
3.2.1等离子体原理
3.2.2射频磁控溅射原理
3.3本章小结
第四章实验程序及测量
4.1器件制备流程和实验器材
4.2 MIM电容制作
4.2.1基片清洗
4.2.2 ITO光刻与基片清洗
4.2.3高介电常数无机绝缘层Ta2O5的制备
4.2.4高介电常数有机绝缘层PAN的制备
4.2.5金属电极的蒸镀
4.3 OTFT的制备
4.2.1有机薄膜晶体管的有源层的制备
4.2.2有机薄膜晶体管的源、漏极的制备
4.3绝缘层薄膜特性测量
4.3.1绝缘层薄膜表面原子力显微镜测量
4.3.2膜厚(film thickness)量测
4.3.2绝缘层电学特性测量-电容及漏电流测量
4.4 OFET电学特性测量
4.5本章小结
第五章实验结果与讨论
5.1 TA2O5溅镀参数对MIM元件电性之影响
5.2双层绝缘层的电容
5.2双层绝缘层对TA2O5有机薄膜晶体管的影响
5.2.1双层绝缘层对绝缘层表面形态的影响
5.2.2双层绝缘层对器件漏电流的影响
5.2.3不同厚度的PAN绝缘层对器件电学性能的影响
5.3本章小结
结论
参考文献
攻读学位期间发表的与学位论文内容相关的学术论文
致谢