Laboratory of Advanced Science Technology for Industry, Himeji Institute of Technology, 3- 1-2 Kouto, Kamigori, Ako, Hyogo 678-1205 Japan;
机译:金刚石车削硅晶体再结晶退火的原位拉曼光谱分析
机译:硅离子注入金刚石和随后退火的分子动力学模拟
机译:硅离子植入到金刚石中的分子动力学模拟及随后退火
机译:硅,退火和重新脆弱硅的癸烷植入计算机模拟
机译:十硼烷离子注入硅的影响。
机译:硅纳米线中植入和退火的砷原子的离散分布及其对器件性能的影响
机译:金刚石车削硅晶体再结晶退火的原位拉曼光谱分析
机译:硅中砷离子注入和退火的原子尺度模拟