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Amorphous metallic alloys: a new advance in thin-film diffusion barriers for co

机译：非晶态金属合金：用于钴的薄膜扩散势垒的新进展

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来源
《Submicrometer Metallization: Challenges, Opportunities, and Limitations》|1992年|p.11-17|
会议地点 San Jose CA(US)
作者
Elzbieta Kolawa; California Institute of Technology; Pasadena; CA; USA; Jason S. Reid; California Institute of Technology; Pasadena; CA; USA; Jen S. Chen; California Institute of Technology; Pasadena; CA; USA.;
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作者单位

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原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类无线电电子学、电信技术;
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