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Some recent results on the 3C-SiC structural defects

机译:关于3C-SiC结构缺陷的一些最新结果

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摘要

This work presents some recent results on the 3C-SiC structural defects, studied by Transmission Electron Microscopy (TEM). The samples studied were grown in several laboratories, using different methods. Commonly used methods for growth are Sublimation Epitaxy (SE), Physical Vapour Transport (PVT), Continuous Feed Physical Vapour Transport (CF-PVT), Chemical Vapour Deposition (CVD), and Liquid Phase Epitaxy (LPE). In all these methods, for both bulk and epitaxial layer growth, substrates from other polytypes are exploited like the common hexagonal polytypes 4H- and 6H-SiC or 3C-SiC seeds both in (111) and (100) orientation.
机译:这项工作提出了一些有关3C-SiC结构缺陷的最新研究成果,并通过透射电子显微镜(TEM)进行了研究。研究的样品使用不同的方法在几个实验室中生长。常用的生长方法是升华外延(SE),物理气相传输(PVT),连续进料物理气相传输(CF-PVT),化学气相沉积(CVD)和液相外延(LPE)。在所有这些方法中,对于体层和外延层的生长,都采用了其他多型的基底,例如在(111)和(100)方向上都常见的六角形多型4H-和6H-SiC或3C-SiC晶种。

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