紫外線照射とポリシラザン塗布法を用いた蒸着 SiO2膜形成 有機フィルム上への緻密無機膜形成とガスバリア特性

摘要

近年、情報化社会の進展に伴い、柔軟性に富hだ電子デバイスを作製するフレキシブルエレクトロ ニクスが注目を集めている。柔軟性、コストの観点から基板材料として有機樹脂フィルムが使われているが、 ガスバリア性が低く、電子デバイスを構成する素子の劣化を引き起こすといった問題がある。一般的な解決 策として、真空蒸着法、スパッタリング法などによる無機膜形成法が存在するが、成膜速度、ガスバリア性 の向上に限界がある。本研究では、真空蒸着法により SiO2 膜を形成した SiO2 蒸着 PET 上にポリシラザン (PHPS)塗布膜を形成し、光照射による低温での緻密 SiO2膜形成とガスバリア特性の向上を検討した。