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塩化ニッケル俗による凹凸構造の作製及び疎永性皮膜への応用

机译:氯化镍制备凹凸结构

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摘要

水溶液中に存在する金属イオンを電子により還元することで金属薄膜を形成するめっき技術は、 材料の高機能化、長寿命化等の特性改善のために種々の産業分野で幅広く適用されている1)。めっ きは、多くの場合、物質表面への光沢感の付与や耐食性向上のため、平滑性が求められている,一 方、電析めっきにおいて、近年、金属イオンの濃度分布やアニオン種の違いにより表面形態を凹凸 に制御する報告がなされている2)。  疎水性表面は、多くの工業製品で必要とされるものであり、その実現には凹凸構造を形成するこ と及び表面エネルギーを小さくすることが必要である3)。  そこで本研究では、めっき技術を用いて疎水性表面を作製するため、めっきの形態制御により凹 凸構造を形成すること及びその表面への疎水層付与を試みた。
机译:通过减少水溶液中存在的金属离子的形成金属薄膜的电镀技术被广泛应用于各种工业部门,以改善材料的高官能化和长寿命的特性。1)。 Mekimi经常,为了赋予物质表面的光泽感,提高耐腐蚀性,需要平滑,一种方式,在电沉积电镀中,近年来,金属离子和阴离子物种的浓度分布。差异是报道的控制表面形态2)。许多工业产品中需要疏水表面,有必要形成凹凸结构并降低实现中的表面能3)。因此,在本研究中,为了使用电镀技术生产疏水表面,试图通过电镀和疏水层的形态控制形成凹凸结构。

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