新しいナノインプリント技術print and imprintによる極限ナノ造形

摘要

ナノインプリント技術は、一桁ナノメートルサイズからの有型成形加工技術である。型による成 形をナノインプリンティング（nanoimprinting）と呼び、成形体を介した下地の加工までをナノインプ リントリソグラフィ脚IL）と呼ぶ。成形法は熱方式と光方式の2方式に大別される。熱可塑性高分 子、紫外線石更化性組成物、無機前駆体、無機ガラス、金属ガラス、粒子複合体など広範囲の物質母 材料が成形対象である。熱方式では光。電子機能性材料を直接成形する、また光方式では画像形成 材料の成形体の構造を金属·半導体·絶縁体の各材料に転写する場合が多い。近年の動向の詳細は 昨年末に出版されたナノインプリント技術ハンドブックを参照願いたい［1］。本講演では、レーザー 加工孔版印刷を新基軸とした独自の光ナノインプリント技術print-and-imprintを概説し、本方法で 重要な役割を果たす分子膜による表面機能エンジニアリングも取り上げつつ説明する。