レーザー照射と可溶性Niジチオール錯体を用いた高耐久性近赤外吸収機能膜の開発

摘要

近年、近赤外吸収機能膜はPDPなどのディスプレイや色素増感型太陽電池など電子デバイスへの適用が期待され注目を集めている。しかし現行の近赤外吸収機能膜は含有色素として染料を、バインダー樹脂として有機樹脂を用いているため諸耐性に劣るといった欠点を有している。本研究では近赤外吸収色素としてNiジチオール錯体を、バインダー樹脂として有機無機ハイブリッド樹脂を使用することによって耐久性の高い近赤外吸収機能膜の作製を行った。また、薄膜作製の方法として現行の加熱処理法からCO2レーザー処理とすることで膜作製プロセスの高速化について検討を行った。