斜め堆積法を適用した反応性蒸着に用いる高指向性蒸発源の開発

摘要

斜め堆積法（Glancing-angle Deposition：GLAD）は，主に真空蒸着法において，薄膜原料流束に対して基板を大きく斜めに傾ける手法である．基板表面に形成された島状構造が原料流束を遮蔽する自己遮蔽効果のため，離散的な柱状構造を容易に形成できる．GLAD法は, 原理的に方向の揃った原料流束が不可欠であるため，気相中の散乱によって原料流束角度分布を広げてしまう反応性ガスやプラズマ環境下では，ほとhど応用されていなかった．筆者らは，圧力条件によっては，反応性ガス環境下でもGLAD法が適用可能であることを示し，離散的ナノ柱状構造を有するさまざまな化合物薄膜を作製してきた．しかし，原料流束角度分布の広がりのため，微細構造の制御性は十分でない．そこで本研究では，一般的に使用されている蒸発源よりも，指向性の高い蒸発源を開発し，反応性ガス環境下における微細構造制御性の向上に寄与することを目的とする．