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【24h】

無電解Ni-Bめっき浴へのタングステン酸添加の影響

机译:钨酸添加到化学镀镍镀液镀浴的影响

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摘要

無電解Ni-Bめっきは、Ni-Pめっきと比較して析出したままの硬度が高く、はhだ付け性が良好などの特徴を有する。また、Wは単独では水溶液からの析出は不可能であるがニッケルなどの鉄族遷移金属と誘導共析する。Ni-Bめっき浴にタングステン酸を導入したNi-W-B合金めっきについては、硬質クロム代替検討として熱処理による皮膜の硬度変化や耐酸耐食性、電気抵抗特性などの検討がなされているが未だに不明な点が多い。本研究では、DMABを還元剤とするNi-Bめつき浴へのタングステン酸添加による析出挙動への影響および皮膜組成と硬さの関連性を明らかにすることを目的とする。
机译:与Ni-P电镀相比,电解Ni-B电镀具有高硬度,并且具有良好的特征,例如H.Teatability。另外,W是不可能从水溶液中沉淀的诱导,而是用诸如镍的铁基过渡金属诱导。将钨酸引入Ni-B电镀浴中的Ni-W-B合金电镀是硬铬替代检查,并且薄膜的硬度变化,耐腐蚀性和电阻特性等仍然未知。有很多积分。在本研究中,本发明的目的是通过碳酸加入DMAB是还原剂的Ni-B眩光来阐明对沉淀行为的影响。

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