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大気圧プラズマ処理をこよる光触媒単結晶および活性炭の表面改質

机译:光催化单晶和大气压等离子体处理的光催化单晶和活性炭的表面改性

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摘要

プラズマとは,固体,液凧気体に続く物質の第4の状態である。プラズマ中には電子,イオン,ラジカルなどが存在するため,化学的に活性で反応性に富hでいる。このため,高度に発達したものづくりにおいてプラズマの果たす役割は大きく,特に集積回路形成プロセスなどの微細加工や機能性薄膜形成では欠くことができない。光触媒や吸着剤などの機能性材料の各種特性は,その表面組成,形状,サイズなどに大きく依存することが知られている。例えば光触媒の場合,光触媒反応に関与する表面積の大きさにその特性が依存するため,特性向上には材料の小型化や多孔質化が要求される。このように,材料の表面状態を制御することはきわめて重要である。本研究では,大気圧プラズマを光触媒単結晶あるいは活性炭表面に照射し,その表面を改質することを目的とした。
机译:等离子体是一种物质的以下固体和液体筷子气体的第四状态。由于有电子,离子,自由基等的等离子体中,它们是化学有功和无功。出于这个原因,通过等离子体中的制造的高度发展发挥的作用是大的,并且特别地,它不能在微细加工和功能性薄膜的形成缺乏诸如集成电路形成工艺。已知的是,功能性材料,如光催化剂和吸附剂的各种特性在很大程度上依赖于它们的表面的组合物,形状,大小等。例如,在光催化剂的情况下,由于它的特性取决于所涉及的光催化反应的表面面积的大小,特性改善,需要小型化和多孔材料。因此,为了控制材料的表面状态是极为重要的。在这项研究中,本发明的一个目的是照射大气压等离子体到光催化剂单晶或活性碳的表面,以及修改的表面。

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