机译:低应力PECVD-使用高功率和高频率以高沉积速率在MEMS应用中使用SiN {sub} x层
机译:在高沉积速率下使用高功率和高频率的低应力PECVD-SiNx层用于MEMS应用
机译:用于MEMS应用的PECVD多晶硅层的表征和应变梯度优化
机译:用于MEMS应用的多晶CVD和PECVD硅 - 锗层的材料性质,均匀性和沉积速率的同时优化
机译:使用ECR-PECVD的氢化非晶硅锗薄膜和器件的高生长速率沉积。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:用于集成光学应用的pECVD磷掺杂氧氮化硅层的沉积和表征
机译:用ECR-pECVD技术高效生长水解非晶硅锗薄膜和器件