ナノパルスプラズマを利用した大気開放下でのダイヤモンド状炭素膜の合成

摘要

本研究は，小型で高出力の得られるSI サイリスタ素子を用いたパルス電源を利用した，ナノパルスプラズマCVD 法により，大気圧下でのDLC 膜の合成を目的としたものである．前報までに，まず6Pa の低圧力下でのDLC 膜の合成を実施し，その特徴を明らかにした．次いで，大気圧101kPa(760Torr)でのDLC 合成を試み，成膜を確認した．今回，大気開放下での成膜を試み，安定的にDLC 膜を得ることが出来た．また，その特性を明らかにするために，投入電圧条件と成膜レートに関して調査した結果を報告する．