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【24h】

デバイスにおけるパワー密度向上に向けた要素技術とそのロードマップ

机译:元素技术及其对设备电力密度改进的路线图

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摘要

パワー密度向上に向けたチップとパッケージのアプローチとして,機能の集積化,損失の低減,高温動作化, パッケージの放熱性の向上などがあげられる。機能の集積化により IGBT とダイオードをー体化させた逆導通 IGBT やパワー IC のようにチップ面積の縮小化が図れパッケージの小型化によるパワー密度の向上が可能となる。また,損失の低減により電流密度を向上できれば機能をそのままにチップ面積の縮小が図れ,同様にパッケージの小型化によるパワー密度の向上が可能となる。チップの高温動作化が可能になれば, 同様に電流密度の向上が可能となるだけでなく冷却構造を小型化することができる。同じくパッケージの放熱性が向上できれば,大電流密度化により損失が増大しても温度上昇を抑制できるので,パワー密度の向上が可能となる。本論文では,Si パワーデバイスと新材料パワーデバイスの最近の開発状況からパワー密度向上に向けたチップとパッケージのアプローチについて紹介し,ロードマップを考察する。
机译:作为一个芯片和用于功率密度的改进的封装的方法,功能的整合,减少损耗,高温操作的,与封装的散热的改善被提及。通过集成的功能,所以能够在功率密度减少由于芯片面积的减小,与反向导通IGBT和由IGBT和二极管制成的功率IC。此外,如果电流密度可由于损耗的降低可以提高,芯片面积可减小,因为它是,功率密度可以通过在封装的小型化得到改善。如果芯片的高温操作是可能的,不仅电流密度可以得到改善,而且还冷却结构可以小型化。如果包的散热也得到改善,温度上升可以即使损耗增加,由于大电流密度被抑制,从而使功率密度可以提高。在本文中,我们将介绍芯片和封装方法,以提高从Si功率器件的最新发展状况和新材料的功率器件的功率密度,并考虑了路线图。

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