1-silicon deposit; 2- thermal plasma; 3-hydrogenation;
机译:RF热等离子体在冶金硅粉的飞行处理中:加工基板上的氢化硅沉积物
机译:通过氢氟酸和硝酸的化学侵蚀,然后进行热处理来纯化冶金级硅粉
机译:Taguchi在电火花加工中使用W-Cu粉末冶金烧结工具进行表面改性技术的分析和沉积层的表征
机译:RF热等离子体冶炼冶金硅粉的纯化与氢化。矿床表征
机译:界面电化学和表面表征:氢封端的硅,在热解光刻胶膜上化学沉积的钯和铂,在铱上电沉积铜。
机译:使用两步金属辅助化学刻蚀方法由冶金级硅粉形成硅纳米线填充膜
机译:研究文章Open access powder metallurgy&氧化铬(VI)粉末物理,热学和结构性质的开采表征:生物场处理的影响
机译:冶金硅衬底上的硅薄膜 - 阶段II。第2号专题报告。冶金硅的纯化和表征