机译:在0.15μm浅沟槽隔离工艺中通过等离子刻蚀减少化学机械抛光缺陷
机译:使用SF_6 / O_2等离子清洁技术减少蚀刻缺陷并优化光刻胶掩膜栅多晶硅蚀刻工艺中的蚀刻配方
机译:使用高密度等离子蚀刻机进行硅微沟槽蚀刻
机译:通过在硅沟槽技术中应用的等离子蚀刻工艺来降低斜面边缘的缺陷密度
机译:等离子体密度控制,用于重新激活工业微电子中的离子刻蚀变化。
机译:用于血浆的病原体减少技术的健康技术评估
机译:氧化物对离子注入硅中沟槽边缘缺陷形成的影响
机译:在高密度等离子体中模拟铝蚀刻化学