Curvilinear mask; lithography; mask data preparation; process window;
机译:口罩制造接近物理极限的挑战
机译:使用现有光掩模制造能力制造用于EUV光刻的自对准交替相移光掩模的简单方法
机译:使用现有的照片掩模制造能力制造用于EUV照片光刻的自对准交替相移照片掩模的简单方法
机译:制造曲线面具的挑战
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:挑战与个人内在动机之间的倒U型曲线关系:来自与事件相关的电位的证据
机译:VIRmOs掩模制造工具:(b)掩模制造和处理