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【24h】

招待講演A Cross Point Cu-ReRAM with a Novel OTS Selector for Storage Class Memory Applications

机译:招待讲演具有新型OTS选择器的交叉点Cu-ReRAM,用于存储级存储器应用

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摘要

本講演では2017 Symposium on VLSI Technologyで発表したストレージクラスメモリ応用に向けたクロ スポイント型のCu-ReRAM技術について紹介する.100 nsの書き換え速度,10M回の書き換え回数を持つ100 Gb クラスのストレージクラスメモリの実用化に向けて2つの重要技術を開発した.1つ目はReRAMの抵抗分布改善 技術で,メモリ層中にバリア層を挿入することで実現した.2つ目はセレクタと呼ばれる双方向選択素子に関する 技術であり,大規模クロスポイントアレイを作製するのに必要なオフリーク特性,閾電圧ばらつき,スイッチング 可能回数をホウ素と炭素を添加したOvonic Threshold Switch (OTS)によって実現した.
机译:在本次演讲中,我们将介绍在2017年VLSI技术研讨会上宣布的用于存储类存储器应用的交叉点Cu-ReRAM技术。100 Gb类存储类,重写速度为100 ns,重写计数为10 M,我们已经开发了两项重要技术在存储器的实际应用中,第一种是ReRAM的电阻分布改善技术,它是通过在存储层中插入势垒层来实现的;第二种是双向的称为选择器的技术,它是与选择元件有关的技术,通过添加硼和碳的Ovonic门限开关(OTS),可以实现制造大规模交叉点阵列所需的无泄漏特性,阈值电压变化和可切换时间。

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