机译:使用原子层沉积的AI_2O_3作为牺牲层制备多晶硅/金纳米间隙
机译:使用原子层沉积牺牲层和阴影沉积法制备纳米间隙电极对。
机译:原子层沉积的Al2O3涂层在紫外线防护应用中消除了TiO2颗粒的光毒性
机译:原子层沉积TiO_2作为纳米级间隙的牺牲层和内涂层
机译:用于高k电介质和存储器应用的原子层沉积Al2O3和TiO2
机译:原子层沉积的TiO2和Al2O3薄膜作为铝食品包装用涂料
机译:原子层沉积TiO2和Al2O3薄膜作为铝食品包装应用的涂料
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。