scatterometry; metal gate; critical dimension;
机译:28nm金属栅极的栅极ADI和AEI CD的散射测量
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机译:使用28nm技术节点制造的高k金属栅极场效应晶体管的电容瞬态光谱测量
机译:28nm金属栅极技术的浇口ADI和AEI关键尺寸的散射测量
机译:二氧化ha与多晶硅栅和双金属(钌-钽合金,钌)栅电极的界面工程和可靠性特性,适用于65 nm以上的技术。
机译:栅GaAs二维电子气中自旋间隙的直接测量
机译:门控中的超导,绝缘和异常金属状态 二维半导体 - 超导体阵列