Mask; Photomask; Multi-Layer Deposition; Defects; Ion Beam; Magnetron;
机译:使用详细的成分分析来开发低缺陷Mo / Si沉积工具和EUVL掩模坯料的工艺
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:通过光电子显微镜对EUVL掩模空白缺陷进行光化检查:检查波长变化的影响
机译:多层沉积方法对EUVL光掩模坯缺陷的影响
机译:用于光刻的DUV和EUV光掩模中非平面相和多层缺陷的快速仿真方法。
机译:无光罩直接选择化学沉积通过控制表面亲水性在玻璃上
机译:EUVL掩模空白缺陷对32-NM HP节点的可检测性和可打印性
机译:EUVL掩模空白低缺陷多层膜的研究进展