EUV source; gas discharge plasma; tin; EUV lithography; halogen cycle;
机译:激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻激光等离子源,用于极紫外(EUV)光刻
机译:适用于EUV光刻和其他应用的强EUV非相干等离子体源
机译:适用于EUV光刻和其他应用的强EUV非相干等离子体源
机译:用于Alpha工具的EUV来源
机译:明亮相干超快速桌面光源的开发以及EUV在软X射线吸收光谱学中的应用。
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:EUV(极端超紫色)光源研究的现状和未来4.Aser产生的等离子体光源4.1激光产生的等离子体EUV源开发