SFIL; dual damascene; dielectric; ILD; interconnect; nanoimprint lithography;
机译:步进闪光压印光刻技术,用于对互连电介质进行构图
机译:氢倍半硅氧烷,用于步进和闪光压印光刻模板的直接电子束构图
机译:分步和快速压印光刻技术,用于制造图案化介质
机译:用于电介质直接构图的多级台阶和Flash压印光刻
机译:分步和快速压印光刻:用于超高密度磁性数据存储设备的图案化介质的制造。
机译:通过全晶圆和卷对卷分步闪光纳米压印光刻技术生产的塑料基板单层宽带抗反射涂层
机译:使用步进和闪存压印光刻图案化的所有权成本分析
机译:基于红外脉冲激光加热的纳米图案混合纳米压印光刻法