EUV; mask blanks; actinic inspectioin; BI-CCD; point spread function; readout noise;
机译:通过光电子显微镜对EUVL掩模空白缺陷进行光化检查:检查波长变化的影响
机译:光化掩模空白检查和信号分析,可检测高度低至1.5 nm的相位缺陷
机译:光电子显微镜观察光化性极紫外光刻掩模空白缺陷
机译:用于光化掩模空白检查的CCD传感器的特性
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:基于线性CCD的新型室内导航定位传感器
机译:<标题> euvl掩码1cm2面积的静态缺陷计数统计空白 title>