机译:Arf受激准分子激光,电子束和极紫外辐射照射下基于金刚烷衍生物的化学放大抗蚀剂的灵敏度之间的关系
机译:ArF化学增强抗蚀剂脂环族含氟聚合物的设计和光刻特性
机译:用于准分子激光烧蚀光刻的新型激光烧蚀剂。光化学性质对烧蚀的影响
机译:使用吸收带移方法与ARF准分子激光光刻结合使用吸收带移方法的化学放大抗蚀剂
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:193 nm ArF受激准分子激光在激光辅助等离子体增强SiNx的化学气相沉积中的作用以进行低温薄膜封装
机译:含有ARF准分子激光光刻的化学放大的抗蚀剂。
机译:拉曼将可调谐arF准分子激光器转换为波长为190至240 nm的强制对流拉曼单元