CEA, LITEN, INES, 50 avenue du Lac Leman, BP 332, F-73377 Le Bourget du Lac Cedex France;
CEA, LITEN, INES, 50 avenue du Lac Leman, BP 332, F-73377 Le Bourget du Lac Cedex France;
CEA, LITEN, INES, 50 avenue du Lac Leman, BP 332, F-73377 Le Bourget du Lac Cedex France;
EXCICO Group NV, Kelpischesteenweg 305 bus 2, B-3500 Hasselt, Belgium;
EXCICO Group NV, Kelpischesteenweg 305 bus 2, B-3500 Hasselt, Belgium;
EDF ENR PWT (Photowatt), 33 Rue St. Honore, 38300 Bourgoin Jailleu, France;
InESS, 23 rue du Loess, BP 20 CR, 67037 Strasbourg France;
IREPA LASER, Parc d'Innovation, F 67400 Illkirch, France;
Silicon Solar Cells; Laser Ablation; Excimer Laser Annealing; Nickel Silicide;
机译:通过准分子激光退火形成的硅化镍触点,用于高效太阳能电池
机译:降低皮秒激光烧蚀阈值,并通过纳秒级预脉冲降低损伤,以去除硅太阳能电池上的介电层
机译:飞秒脉冲激光退火法在SiN_x:H薄膜中形成和形成纳米晶硅
机译:基准硅酸硅(ELA)对高效硅太阳能电池的蓄电池硅化物形成吡辛激光源的比较SIN_X消融。高效硅太阳能电池
机译:基于铜-铟-镓-二硒化物的薄膜太阳能电池的脉冲激光退火和快速热退火。
机译:通过紫外皮秒激光的初步制备工艺根据聚合物的细曲率提高激光烧蚀效率的方法的开发
机译:准分子激光退火形成硅化镍
机译:脉冲准分子激光(308海里)退火离子注入硅和太阳能电池制造