imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium;
ASML Netherlands B.V., De Run 6501, 5504DR Veldhoven, the Netherlands;
imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium;
imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium;
imec, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium;
ASML Netherlands B.V., De Run 6501, 5504DR Veldhoven, the Netherlands;
机译:有节奏的掩盖释放:感知组织的提示对同时窄带噪声的跨谱融合的贡献
机译:具有单光子的线性光学量子计量学:利用自发产生的纠缠来克服散粒噪声限制(vol 114,170802,2015)
机译:错误:单光子的线性光学量子计量:利用自发产生的纠缠以击败射击噪声限制[物理。 rev. lett。 114,170802(2015)]
机译:粗糙度分解:围绕掩模,计量和射击贡献的晶圆方法
机译:弱值计量学和散粒噪声限制测量。
机译:量子计量学:通过Dzyaloshinskii-Moriya相互作用超越了发射噪声极限
机译:有效的CD:对散射临界尺寸计量中的线边粗糙度思考的贡献