Fraunhofer-Institut fuer Angewandte Optik und Feinmechanik, Schillerstrasse 1, 07745 Jena, Germany;
EUV; multilayers; Mo/Si; broadband mirrors; narrowband mirrors; coating designs; metrology; plasma sources;
机译:用于EUV光谱范围的宽带多层镜的组成,合成和研究的优化
机译:具有增强光谱选择性的两通道Euv多层镜的设计和性能
机译:Euv暴露和碳污染导致入射入射Euv镜的反射率降低
机译:EUV多层镜具有量身定制的光谱反射率
机译:用于多层反射镜的EUV /软X射线区域中材料的光学常数。
机译:基于多色光声仪器的无色差反射镜光学系统设计
机译:纳米级EUV和软X射线多层光学器件的光谱定制
机译:XUV光谱区多层镜面反射率和受激发射的测量