...
机译:Euv暴露和碳污染导致入射入射Euv镜的反射率降低
Center for Plasma Material Interactions, Department of Nuclear, Plasma and Radiological Engineering, University of Illinois at Urbana-Champaign, 104 S. Wright Street, Urbana, IL 61801, USA;
carbon contamination; sputtering; reflectivity; euv mirrors; photoelectron;
机译:等离子体清洗EUV光刻中的多层反射镜,以清除无定形碳污染
机译:在单次损伤阈值下方长期自由电子激光曝光下EUV镜辐射损伤阻力的实验研究
机译:与极紫外(EUV)光刻中镜面退化有关的表面现象
机译:Socomo的污染镜子膜掩模劣化镜面的评价工具开发 - (PPT)
机译:EUV光致抗蚀剂暴露的二次电子相互作用
机译:在单次损伤阈值以下的长期自由电子激光照射下EUV镜辐射损伤抵抗性的实验研究
机译:基于钍的薄膜作为EUV中的高反射镜