Himeji Institute of Technology, Ako-gun, Hyogo 678-1205, Japan;
EUV; point diffraction interferometer; undulator; beam line; multilayer mirror; wave-front error;
机译:基于相干衍射成像方法聚焦EUV聚焦的EUV显微镜的EUV掩模缺陷评估
机译:近衍射极限波荡器同步辐射源的相干性
机译:相干衍射辐射干涉法和短束长测量
机译:Euv点衍射干涉测量使用NEWSUBARU波浪辐射的发展
机译:具有桌面EUV源的高分辨率,定量和三维相干衍射成像
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:近衍射极限波荡器同步加速器辐射源的相干性
机译:针孔衍射的三维数值研究预测EUV点衍射干涉测量的准确性