Sharp Laboratories of America, Inc, 5700 NW Pacific Rim Blvd., Camas, WA 98607-9487;
silicon sputtering; threshold voltage adjust; laser crystallization;
机译:膜厚对多晶硅TFT阈值电压的影响
机译:通过介绍多晶硅浮栅,有机薄膜晶体管的阈值电压调节
机译:垂直非均匀掺杂硅膜的短栅SOI MESFET阈值电压的解析模型
机译:具有原位掺杂PVD硅膜的TFT阈值电压调节
机译:高压GaN HEMT的栅极下沉阈值电压调整技术。
机译:使用光反应性界面层通过局部沟道掺杂来调节有机薄膜晶体管的阈值电压
机译:通过引入多晶硅浮栅来调节有机薄膜晶体管的阈值电压
机译:a-si:H TFTs中的阈值电压不稳定性及其对柔性显示器和电路的影响