Semiconductor Research Laboratory, Technical Research Institute, Toppan Printing Co., Ltd., 4-2-3 Takanodai-minami, Sugito, Saitama 345-8508, Japan;
ArF lithography; alternating phase-shift mask; 3D-mask simulation; AIMS;
机译:使用感应耦合等离子体(ICP)的极紫外蚀刻(EUVL)的交替相移掩模(PSM)结构的高度选择性干法蚀刻
机译:高级光学光刻中减毒相移掩模的三维掩模效应研究
机译:Fabry-Perot结构用于ArF和F_2光刻中的衰减相移掩模
机译:ARF光刻交替相移掩模结构的研究
机译:完全交替的低聚聚(芳醚酮酮)共聚物的晶体结构和相变行为的研究
机译:基于掩模的一步法光刻技术用于制造3D悬浮结构
机译:连续相移光刻用辊式掩模和透明导体制造的应用
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面