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Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP
Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP
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1.
EPL Data Conversion System
机译:
EPL数据转换系统
作者:
Masahiro Shoji
;
Nobuyasu Horiuchi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
NGL;
EPL;
EB stepper;
data conversion;
2.
Unique advanced homodyne interferometer system provides a cost- effective and simple position feedback solution for precision motion control applications
机译:
独特的高级零差干涉仪系统可为精密运动控制应用提供经济高效且简单的位置反馈解决方案
作者:
Steve Jones
;
Mark Chapman
;
Lucy Attwood
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
3.
Extension of Photolithography
机译:
光刻扩展
作者:
Masaomi Kameyama
;
Martin McCallum
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
photolithography;
extension;
RET;
immersion;
NGL;
litho friendly design;
4.
The study of Phase Angle Effects to Wafer Process Windows using 193nm EAPSM in a 300mm Wafer Manufacturing Environment
机译:
在300mm晶圆制造环境中使用193nm EAPSM的晶圆工艺窗口对相角效应的研究
作者:
William Chou
;
Shih Ming Yen
;
J. K. Wu
;
W.B. Shieh
;
Mars Chuang
;
George Fan
;
C.C. Tseng
;
Gregory P. Hughes
;
Susan Macdonald
;
Carrie Holiday
;
Gong Chen
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
193nm-EAPSM;
phase-angle and transmission specification;
wafer process window;
AIMS;
5.
Tolerance-based process proximity correction (PPC) verification methodology
机译:
基于公差的过程接近校正(PPC)验证方法
作者:
Kohji Hashimoto
;
Hiroharu Fujise
;
Shigeki Nojima
;
Takeshi Ito
;
Takahiro Ikeda
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
tandem process proximity correction (PPC);
pattern feature extraction;
tolerance-based PPC verification;
process proximity effect (PPE);
6.
High Speed Actinic EUV Mask Blank Inspection with Dark-Field Imaging
机译:
带有暗场成像的高速光化EUV掩模空白检测
作者:
Tsuneo Terasawa
;
Yoshihiro Tezuka
;
Masaako Ito
;
Toshihisa Tomie
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
multilayer;
mask blank;
actinic inspection;
EUV;
phase defect;
at-wavelength inspection;
7.
Study of Mask Corner Rounding Effects on Lithographic Patterning for 90-nm Technology Node and Beyond
机译:
掩模角倒圆对90nm及更高工艺节点光刻构图的影响研究
作者:
Shuo-Yen Chou
;
Jaw-Jung Shin
;
King-Chang Shu
;
Jan-Wen You
;
Lin-Hung Shiu
;
Bin-Chang Chang
;
Tsai-Sheng Gau
;
Burn J. Lin
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
mask corner rounding;
lithography simulation;
optical proximity correction;
16X mask;
8.
Feedforward Correction of Mask Image Placement for Proximity Electron Lithography
机译:
邻近电子光刻的掩模图像位置前馈校正
作者:
Shinji Omori
;
Shinichiro Nohdo
;
Tomonori Motohashi
;
Tetsuya Kitagawa
;
Takashi Susa
;
Kenta Yotsui
;
Kojiro Itoh
;
Akira Tamura
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
proximity electron lithography;
LEEPL-3000;
stencil mask;
image placement;
overlay;
mix and match;
9.
Status and issues of EPL
机译:
EPL的现状和问题
作者:
Masaki Yamabe
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
EPL;
electron projection lithography;
EPL mask;
inspection;
repair, data processing;
10.
Contact Hole Reticle Optimization by Using Interference Mapping Lithography (IML~(TM))
机译:
使用干涉映射光刻技术(IML〜(TM))优化接触孔掩模版
作者:
Robert Socha
;
Douglas Van Den Broeke
;
Stephen Hsu
;
J. Fung Chen
;
Tom Laidig
;
Noel Corcoran
;
Uwe Hollerbach
;
Kurt E. Wampler
;
Xuelong Shi
;
Will Conley
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
11.
New Placement Algorithm of Contact Layer Patterns for NGL Stencil Complementary Masks
机译:
NGL模板互补掩模的接触层图案新放置算法
作者:
Kokoro Kato
;
Kuninori Nishizawa
;
Tadao Inoue
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
12.
Actinic Detection and Screening of Multilayer Defects on EUV Mask Blanks using Dark-field Imaging
机译:
使用暗场成像对EUV掩模空白上的多层缺陷进行光化检测和筛选
作者:
Yoshihiro Tezuka
;
Masaaki Ito
;
Tsuneo Terasawa
;
Toshihisa Tomie
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
EUV;
mask blanks;
actinic inspection;
phase defect;
surface roughness;
multilayer;
noise, fractal;
13.
Mask CD measurements with an atomic force microscope
机译:
使用原子力显微镜掩盖CD测量
作者:
Yuuichi Yoshida
;
Shiho Sasaki
;
Tsukasa Abe
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
photo mask;
metrology;
lithography;
critical dimension;
atomic force microscope;
14.
Linearity Improvement for CD Metrology with Deep-UV Microscope
机译:
用深紫外显微镜改善CD计量的线性
作者:
Takeshi Yamane
;
Takashi Hirano
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
critical dimension;
deep-UV microscope;
linearity;
metrology;
simulation;
15.
Low-Thermal Expansion Material for EUVL Photomask Substrate Application
机译:
用于EUVL光掩模基板的低温热膨胀材料
作者:
Kousuke Nakajima
;
Nobuo Kawasaki
;
Toshihide Nakajima
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
CTE property;
EUVL;
photomask substrate;
polished surface;
CLEARCERAM~R-Z;
16.
Optimization of the Chromium-Shielding Attenuated Phase Shift Mask for 157-nm Lithography
机译:
157 nm平版印刷的铬屏蔽衰减相移掩模的优化
作者:
Eiji Kurose
;
Kunio Watanabe
;
Toshifumi Suganaga
;
Toshiro Itani
;
Kiyoshi Fujii
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
157-nm lithography;
resolution enhancement technology;
attenuated phase-shifting mask;
side-lobe;
chromium-shielding;
hole pattern;
aerial image simulation;
exposure experiment;
resolution limit;
17.
OPC development: Variable CD-SEM bias through feature shape, feature density and material composition
机译:
OPC开发:通过特征形状,特征密度和材料成分变化的CD-SEM偏差
作者:
Kirk Miller
;
Katsuhiro Matsuyama
;
Ingo Schmitz
;
Dean Dawson
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
atomic force microscope;
AFM;
lithography;
etch;
metrology;
18.
Photomask ADI, AEI and QA measurements using Normal Incidence Optical-CD metrology
机译:
使用法向入射光CD测量法进行光掩模ADI,AEI和QA测量
作者:
Ebru Apak
;
T. P. Sarathy
;
William A. McGahan
;
Pablo I. Rovira
;
Ray J. Hoobler
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
OCD;
scatterometry;
normal incidence spectroscopic ellipsometry;
ADI;
AEI;
19.
Photo Mask with Interior Nonprinting Phase Shifting Window for Printing Small Post Structures
机译:
带有内部非打印相移窗口的光掩模,用于打印小型邮政结构
作者:
Yung-Tin Chen
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
post features;
nonprinting window;
KrF;
3-D integrated circuit;
phase shifting mask;
20.
Pattern accuracy and throughput optimization for an SLM-based 248-nm DUV laser mask pattern generator
机译:
基于SLM的248 nm DUV激光掩模图案发生器的图案精度和生产量优化
作者:
Henrik Sjoeberg
;
Jean-Michel Chauvet
;
Jan Haerkesjoe
;
Peter Hoegfeldt
;
Andrzej Karawajczyk
;
Johan Karlsson
;
Lars Kjellberg
;
Jonas Mahlen
;
Angela Beyerl
;
Jukka Vedenpaeae
;
Robin Goodoree
;
Mans Bjuggren
;
Johan Aman
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
SLM;
pattern generator;
photomask;
throughput;
pattern accuracy;
21.
Performance data on new tunable attenuating PSM for 193nm and 157nm lithography
机译:
用于193nm和157nm光刻的新型可调衰减PSM的性能数据
作者:
Hans Becker
;
Frank Schmidt
;
Frank Sobel
;
Markus Renno
;
Ute Buttgereit
;
Jay Chey
;
Marie Angelopoulos
;
Konrad Knapp
;
Guenter Hess
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
PSM;
phase shift;
mask blank;
157nm;
193nm;
22.
Structure and Data Processing for PEL Mask Compatible with Image Placement Accuracy in the 65-nm Node and Beyond
机译:
PEL掩模的结构和数据处理与65 nm节点及以后的图像放置精度兼容
作者:
Kohichi Nakayama
;
Kensuke Tsuchiya
;
Shinji Omori
;
Hidetoshi Ohnuma
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
proximity electron beam lithography (PEL);
low-energy electron-beam proximity-projection lithography (LEEPL);
complementary stencil mask on strut-supports (COSMOS);
stencil mask;
image placement (IP) error;
23.
Recent CD accuracy improvements for HL-7000M
机译:
HL-7000M最近的CD准确性改进
作者:
WANG Zhigang
;
Hidetoshi Satoh
;
Hiroyuki Ito
;
Yasunari Sohda
;
Hiroya Ohta
;
Hajime Kawano
;
Yasuhiro Kadowaki
;
Kazui Mizuno
;
Takashi Matsuzaka
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
HL-7000M;
VSB;
linearity;
gain;
shift;
X-Y discrepancy;
shot-divided pattern;
24.
Analysis of dose modulation method for fogging effect correction at 50KeV E-Beam System
机译:
50KeV电子束系统雾化效果校正的剂量调制方法分析
作者:
Sung-Hoon Jang
;
Seung-Hune Yang
;
Byoung-Sup Ahn
;
Won-Tai Ki
;
Ji-Hyeon Choi
;
Seong-Woon Choi
;
Woo-Sung Han
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
fogging effect;
proximity effect correction;
dose modulation;
variable shaped beam;
25.
Application of atomic force microscope to 65nm node photomasks
机译:
原子力显微镜在65nm节点光掩模中的应用
作者:
Yoshiyuki Tanaka
;
Yasutoshi Itou
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Katsuhiro Matsuyama
;
Dean Dawson
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
AFM;
CD;
26.
Development of an LEEPL mask - Flatness and IP measurements
机译:
LEEPL掩模的开发-平面度和IP测量
作者:
Yuuki Aritsuka
;
Minoru Kitada
;
Masaru Kuroswa
;
Tadahiko Takikawa
;
Hiroshi Fujita
;
Hisatake Sano
;
Morihisa Hoga
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
LEEPL;
mask;
SOI;
flatness;
IP;
27.
Eigen Decomposition Based Models for Model OPC
机译:
基于特征分解的OPC模型
作者:
Xuelong Shi
;
Tom Laidig
;
J. Fung Chen
;
Doug Van Den Broeke
;
Stephen Hsu
;
Michael Hsu
;
Kurt Wampler
;
Uwe Hollerbach
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
Model OPC;
eigen decomposition model;
low k1;
CPL;
DDL;
CD;
real pupil;
customized illumination;
28.
EUVL mask challenges and how International SEMATECH is addressing them
机译:
EUVL面罩挑战以及国际SEMATECH如何应对
作者:
Scott D. Hector
;
Kevin Kemp
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUV;
masks;
mask blanks;
multilayer coatings;
cost of ownership;
standards;
29.
Investigation of several materials as buffer layer candidates of EUVL mask
机译:
研究几种用作EUVL掩模的缓冲层候选材料
作者:
Dongwan Kim
;
Yuusuke Tanaka
;
Hiromasa Yamanashi
;
Iwao Nishiyama
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
EUVL;
mask;
Cr;
CrN;
Ru;
buffer;
etch;
selectivity;
reflectivity;
contrast;
30.
DUV ALTA system aerial image enhancement for improved pattern fidelity: Phase Ⅱ
机译:
DUV ALTA系统航拍图像增强以提高图案保真度:第二阶段
作者:
M. E. Ungureit
;
S. Howells
;
T. Chabreck
;
J. Hubbard
;
A. Klatchko
;
P. Pirogovsky
;
R. Teitzel
;
A. Berwick
;
B. Skyborg
;
Paul C. Allen
;
C. Morgante
;
M. White
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
CAR;
CW laser;
mask pattern generation system;
multibeam;
OPC;
pattern fidelity;
31.
Method For Measuring Reticles With Pellicles Mounted
机译:
装有膜片的光罩的测量方法
作者:
Lee
;
Chris
;
Kulawiec
;
Andrew
;
Tronolone
;
Mark
;
Nakamura
;
Yoshihiro
;
Murakami
;
Takayuki
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
photomask;
reticle;
pellicle;
flatness;
thickness variation;
tropel;
UltraFlat;
32.
Actinic Aerial Image Measurement for Qualification of Defect on 157nm Photomask
机译:
157nm光掩膜上的缺陷鉴定的光化航空图像测量
作者:
Takashi Yasui
;
Iwao Higashikawa
;
Peter Kuschnerus
;
Wolfgang Degel
;
Klaus Boehm
;
Axel Zibold
;
Yuji Kobiyama
;
Jan-Peter Urbach
;
Christof M. Schilz
;
Silvio Teuber Semmler
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
157nm lithography;
aerial image;
programmed defect mask;
33.
Advanced mask pattern correction method of alternating PSM: Improvement of line width uniformity in the shifter length direction
机译:
交替PSM的先进掩模图案校正方法:提高移位器长度方向上的线宽均匀性
作者:
Masamichi Yoshida
;
Ken Ozawa
;
Kazuhisa Ogawa
;
Hidetoshi Ohnuma
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
alt-PSM (alternating phase shift mask);
OPC (optical proximity correction);
phase shifter;
model-based OPC, distortion;
OPC segment size;
34.
Evaluation of image placement of EPL stencil masks
机译:
EPL模板掩模的图像放置评估
作者:
Satoshi Yusa
;
Mikio Ishikawa
;
Yoshinori Kinase
;
Tadahiko Takikawa
;
Hiroshi Fujita
;
Hisatake Sano
;
Morihisa Hoga
;
Naoya Hayashi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
EPL mask;
stencil mask;
image placement;
LMS IPRO;
35.
CPL Mask Technology for Sub-100nm Contact Hole Imaging
机译:
用于低于100nm接触孔成像的CPL掩模技术
作者:
Bryan S. Kasprowicz
;
Will Conley
;
Lloyd C. Litt
;
Doug van den Broeke
;
Patrick Montgomery
;
Robert Socha
;
Wei Wu
;
Kevin Lucas
;
Bernie Roman
;
Fung Chen
;
Kurt Wampler
;
Tom Laidig
;
Chris Progler
;
Michael E. Hathorn
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
36.
Model Based Interpretation Filtering for Complex Two Dimensional Layout Features
机译:
复杂二维布局特征的基于模型的解释过滤
作者:
Lawrence S. Melvin III
;
James P. Shiely
;
Christopher M. Cork
;
Michael L. Rieger
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
OPC;
model-based targeting;
two-dimensional feature;
pinching;
bridging;
pullback;
37.
Mask Metrology 2D application for Measurement of OPC features and Corner Roundness
机译:
面罩计量2D应用程序,用于测量OPC特征和角圆度
作者:
R.Kris
;
O.Menadeva
;
A.Tam
;
R. Peltinov
;
L.Segal
;
N.Wertsman
;
N.Shcolnik
;
G.Gottlib
;
A.Vilenkin
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
CD metrology;
SEM metrology;
optical proximity correction;
corner roundness;
smoothing spline;
38.
A novel approach to the mask inspection for proximity electron lithography based on electron beam imaging
机译:
基于电子束成像的近距离电子光刻掩模检测的新方法
作者:
Kazuya Iwase
;
Shinji Omori
;
Shoji Nohama
;
Kenta Yotsui
;
Gaku Suzuki
;
Yushin Sasaki
;
Kojiro Itoh
;
Akira Tamura
;
Satoru Maruyama
;
Shigeru Moriya
;
Tetsuya Kitagawa
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
proximity electron lithography;
stencil mask;
defect printability;
defect inspection;
39.
Visible-Light Inspection of EUVL Multilayer Mask Blanks
机译:
EUVL多层面膜毛坯的可见光检查
作者:
Takeo Hashimoto
;
Hiromasa Yamanashi
;
Shinji Miyagaki
;
Iwao Nishiyama
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
EUVL mask;
multilayer mask blank;
defect;
visible-light inspection;
PSL;
40.
High alignment-accuracy EB writing of Phase shift image for 65nm node masks
机译:
用于65nm节点掩模的相移图像的高对准精度EB写入
作者:
Norio Kimura
;
Tadashi Komagata
;
Yasutoshi Nakagawa
;
Nobuo Gotoh
;
Kazumitsu Tanaka
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
41.
Through pitch low-k_1 contact hole imaging with CPL~(TM) technology
机译:
采用CPL〜(TM)技术的低螺距低k_1接触孔成像
作者:
Vincent Wiaux
;
Joost Bekaert
;
J. Fung Chen
;
Stephen Hsu
;
Kurt Ronse
;
Robert Socha
;
Geert Vandenberghe
;
Douglas Van Den Broeke
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
42.
The study of high-speed electron beam deflection technology for VSB writers
机译:
VSB作家高速电子束偏转技术的研究
作者:
Junji Hirumi
;
Nobuyuki Yoshioka
;
Hiromichi Hoshi
;
Hiroyoshi Ando
;
Seiichi Tsuchiya
;
Morihisa Hoga
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
EB;
VSB;
DAC;
settling time;
transistor;
43.
The masks fabricated by UV LIGA for excimer laser ablation and X-ray lithography
机译:
UV LIGA制造的用于准分子激光烧蚀和X射线光刻的掩模
作者:
Jingqiu Liang
;
Zichun Le
;
Weibiao Wang
;
Liangqiang Peng
;
Weihua Lan
;
Anjie Ming
;
Jian Ye
;
Bisheng Quan
;
Jinsong Yao
;
Ming Xuan
;
Lijun Wang
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
mask;
excimer laser ablation;
X-ray lithography;
UV LIGA;
microstructure;
44.
Stencil Mask Defect Inspection System and Advanced Application
机译:
模板掩膜缺陷检查系统及先进应用
作者:
Satoru Maruyama
;
Nakahiro Harada
;
Jiro Yamamoto
;
Naoyuki Nakamura
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
inspection;
masks;
stencil;
EPL;
LEEPL;
wafer;
45.
Study of mask process development for EUVL
机译:
EUVL掩模工艺开发的研究
作者:
Tsukasa Abe
;
Masaharu Nishiguchi
;
Tsuyoshi Amano
;
Toshiaki Motonaga
;
Shiho Sasaki
;
Hiroshi Mohri
;
Naoya Hayashi
;
Yuusuke Tanaka
;
Hiromasa Yamanashi
;
Iwao Nishiyama
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
EUVL;
mask;
absorber layer;
buffer layer;
dry etching;
FIB;
GAE;
AFM;
46.
Statistical properties analysis of dynamic speckles produced by a weak random phase screen under illumination of a Gaussian light
机译:
高斯光照射下弱随机相位屏产生的动态斑点的统计特性分析
作者:
Lili Zhou
;
Xuezeng Zhao
;
Weijie Wang
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
dynamic speckle;
statistical properties;
space-time cross-correlation function;
47.
Study of Alternating Phase-Shift Mask structures for ArF lithography
机译:
ArF光刻的交替相移掩模结构研究
作者:
Yosuke Kojima
;
Toshio Konishi
;
Jun Sasaki
;
Keishi Tanaka
;
Toru Komizo
;
Motohiko Morita
;
Masanori Shirasaki
;
Takashi Ohshima
;
Hiroyuki Takahashi
;
Kazuaki Chiba
;
Masao Otaki
;
Yoshimitsu Okuda
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
ArF lithography;
alternating phase-shift mask;
3D-mask simulation;
AIMS;
48.
Nanofabrication of Nano Pattern and Micro-Devices using Contact/ Proximity Lithography
机译:
使用接触/接近光刻技术对纳米图案和微器件进行纳米加工
作者:
Yung-Chiang Ting
;
Shyi-Long Shy
;
Ming-Chun Lee
;
Bau-Tong Dai
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
nanofabrication;
contact/proximity lithography;
micro channel;
micro lens;
chemical amplified resist (CAR);
49.
LEEPL Data Conversion System
机译:
LEEPL数据转换系统
作者:
Masahrro Shoji
;
Nobuyasu Horiuchi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
NGL;
LEEPL;
COSMOS;
data conversion;
50.
Proximity-effect correction software for EPL using the pattern classify method
机译:
使用模式分类方法的EPL邻近效果校正软件
作者:
Shigeki Mori
;
Akio Sato
;
Kyoji Nakajo
;
Masanori Shoji
;
Naomi Shimada
;
Hirokazu Sambayashi
;
Kenzo Goto
;
Fumio Murai
;
Hiroshi Fukuda
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
EPL;
proximity-effect;
EB-direct writing;
51.
Shadowing effect minimization in EUV mask by modeling
机译:
通过建模将EUV蒙版中的阴影效果最小化
作者:
Maxime Besacier
;
Patrick Schiavone
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
masks;
EUV;
shadowing effect;
CD shift;
geometric effect;
slope of edge;
MMFE;
rigorous simulation;
52.
Ru Capped EUVL ML Mask Blank Performance
机译:
Ru封顶EUVL ML面膜空白性能
作者:
Pei-yang Yan
;
Guojing Zhang
;
Eberhard Spiller
;
Paul Mirkarimi
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
|
2004年
关键词:
EUVL ML mask blank;
Ru capped ML;
EUVL mask processing;
53.
Study of an image stitching method for linewidth measurement
机译:
用于线宽测量的图像拼接方法的研究
作者:
Wei Chu
;
Xuezeng Zhao
;
Joseph Fu
;
Theodore Vorburger
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
linewidth;
sidewall;
atomic force microscopy (AFM);
nanotube probe;
image stitching method;
image registration;
54.
Aerial image measurement technique for Automated Reticle Defect Disposition (ARDD) in wafer fabs
机译:
晶圆厂自动掩模版缺陷处理(ARDD)的航空图像测量技术
作者:
A.M. Zibold
;
R. Schmid
;
B. Stegemann
;
T. Scheruebl
;
W. Harnisch
;
Y. Kobiyama
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
55.
Double Dipole Lithography for 65 nm node and beyond: a technology readiness review
机译:
适用于65 nm及以上节点的双偶极光刻技术:技术准备情况回顾
作者:
Stephen Hsu
;
Mark Eurlings
;
Eric Hendrickx
;
Douglas Van Den Broeke
;
Tsann-bim Chiou
;
J. Fung Chen
;
Tom Laidig
;
Xuelong Shi
;
Jo Finders
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
double dipole llithography (DDL);
off-axis illumination (OAI);
scattering bars (SB);
shielding;
RET;
model based layout conversion;
line width roughness (LWR);
critical dimension uniformity (CDU);
sub-resolution grating block (SGB);
56.
CPL~(TM) Reticle Technology for Advanced Device Applications
机译:
适用于高级设备应用的CPL〜(TM)标线技术
作者:
Will Conley
;
Doug van den Broeke
;
Robert Socha
;
Wei Wu
;
Lloyd Litt
;
Kevin Lucas
;
Bernie Roman
;
Ritchie Peters
;
Colita Parker
;
Fung Chen
;
Kurt Wampler
;
Tom Laidig
;
Erika Schaefer
;
Jan Pieter Kuijten
;
Arjan Verhappen
;
Stefan van de Goor
;
Martin Chaplin
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
57.
Application of CPL with Interference Mapping Lithography~(TM) to Generate Random Contact Reticle Designs for the 65nm Node
机译:
具有干扰映射光刻技术的CPL在生成65nm节点的随机接触掩模版设计中的应用
作者:
Douglas Van Den Broeke
;
Tom Laidig
;
J. Fung Chen
;
Kurt Wampler
;
Stephen Hsu
;
Xuelong Shi
;
Robert Socha
;
Mircea Dusa
;
Noel Corcoran
会议名称:
《Conference on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI pt.2; 20040414-20040416; Yokoham; JP》
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2004年
关键词:
interference mapping lithography;
IML;
CPL technology;
off-axis illumination;
QUASAR;
resolution enhancement technique;
PSM;
model OPC;
assist features;
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