Litho Tech Japan Corporation 2-6-6 Namiki, Kawaguchi, Saitama, 332-0034, Japan;
Thick-film resist; resolution; Pre-bake; solvent; N_2; PAC; benard cell; development rate measurement system; mask aligner; lithography simulations;
机译:30 nm厚抗蚀剂对改善低能电子束光刻的分辨率性能的影响
机译:JSR扩大厚膜抗蚀剂,绝缘膜的量产
机译:Ruo2和Bi2RU2O7基厚电阻膜高压脉冲修整的统计说明
机译:改进的厚膜抗蚀剂分辨率
机译:对瞬变电磁和电阻率/感应极化测深进行同步建模,以提高水文地质调查中的分辨率。
机译:湿法化学合成和厚膜氧化膜的筛选用于电阻式气体传感应用
机译:使用干厚抗蚀膜均匀制作Moem阵列