Center for Photonics Technology, Virginia Polytechnic Institute and State University 460 Turner Street, Suite 303, Blacksburg, VA 24061;
deep wet etching; fused silica; optical fibers; fiber optic sensors;
机译:HF / HNO 3 sub>和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学器件的抗激光损伤性和表面质量的影响
机译:用于单电池和光学传感器沉积的熔融石英玻璃的深湿蚀刻的特性
机译:基于熔融石英与金属材料热膨胀系数差异的光纤温度传感器
机译:用于光纤传感器的熔融二氧化硅材料深湿蚀刻
机译:波导传感器平台:(A)电活性光纤芯片的开发和(B)新分子材料的衰减全反射光谱
机译:反应离子刻蚀过程中紫外激光损伤对熔融石英光学器件中污染物浓度的影响
机译:HF / HNO $ _3 $和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学元件的抗激光损伤性和表面质量的影响