退出
我的积分:
中文文献批量获取
外文文献批量获取
金属栅极; 解决方案; 合作开发; 蚀刻; 高级; AIR; 材料; 适用; 半导体行业;
机译:Air Liquide和St在数字变换解决方案上进行协作
机译:选择性湿法去除Hf基层和高级金属栅极堆叠中的干后蚀刻残留物
机译:采用高k栅极电介质/金属栅极堆叠的覆盖层的厚度和材料对平坦带电压(V_(FB))和等效氧化物厚度(EOT)的依赖性,适用于先栅工艺应用
机译:一种新颖的低电阻栅极填充材料,可实现20nm甚至更高的极限栅极长度缩放,适用于后栅极高k /金属栅极CMOS技术
机译:适用于ULSI应用的高级栅极电介质。
机译:通过相邻金属栅极调整蚀刻的石墨烯双量子点的点间隧道耦合
机译:适用于金属板材成形的高级摩擦建模软件解决方案
机译:NCEmT 2004年度报告。先进的金属加工解决方案,适用于受到伤害的海军系统
机译:利用蚀刻解决方案形成栅极绝缘层的蚀刻解决方法以及利用蚀刻解决方案制造半导体装置的方法
机译:用于蚀刻金属层的蚀刻解决方案,使用该蚀刻解决方案的蚀刻方法以及使用该蚀刻解决方案来制造半导体应用的方法
机译:形成适用于高级栅极介电材料的氮化物层的方法
抱歉,该期刊暂不可订阅,敬请期待!
目前支持订阅全部北京大学中文核心(2020)期刊目录。