【24h】

Growth of high resistivity CdTe and (Cd,Zn)Te crystals

机译:高电阻率CdTe和(Cd,Zn)Te晶体的生长

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摘要

CdTe and (Cd, Zn)Te high resistivity crystals were grown by the Vertical Bridgman method with diameters from 25 mm up to 75 mm. Different dopants had been applied to obtain resistivities of 5 x 10~8 Ωcm up to 2 x 10~(10) Ωcm and 3 x 10~(-3) cm~2/V for the mobility-lifetime product for electrons for the indium doped material.
机译:通过垂直布里奇曼法生长直径为25mm至75mm的CdTe和(Cd,Zn)Te高电阻率晶体。对于铟电子的迁移率-寿命产物,已应用了不同的掺杂剂以获得5 x 10〜8Ωcm至2 x 10〜(10)Ωcm和3 x 10〜(-3)cm〜2 / V的电阻率掺杂材料。

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