Brewer Science, Inc., 2401 Brewer Drive, Rolla, MO 65401, USA;
193-nm microlithography; 248 nm; trilayer; spin-on; hardmask; antireflective; BARC;
机译:一氧化氮介导的聚合反应合成窄分子量分布的降冰片烯-内酯官能化聚合物:193 nm光刻胶材料的候选材料
机译:193 nm受激准分子激光烧蚀后的丙烯酸人工晶状体(IOLs)材料上的锥形结构
机译:用于193 nm干式和浸没式光刻的新型材料的开发
机译:图像反转三层材料与加工
机译:热循环下表征和评估异种材料三层组件寿命的混合方法
机译:更正:李问和梁世Y基于KSVD和平滑罚分稀疏表示方法的金属材料微结构图像复原。材料201811637
机译:通过氮氧化物介导的聚合合成窄分子量分布的降冰片烯 - 内酯功能化聚合物:193nm光刻胶材料的候选者
机译:氧化铝作为193纳米准分子激光光刻的成像材料。