IBM Almaden Research Center, 650 Harry Road, San Jose, CA 95120;
chemically amplified resist; combinatorial chemistry; processing conditions; thermal gradient;
机译:组合风电场系统集成和电阻式SFCL多目标优化的层次分析法
机译:通过利用FIRM工艺修改抗蚀剂聚合物和工艺条件来进行193 nm抗蚀剂塌陷研究
机译:电子热能对化学放大电子束抗蚀剂敏化过程的理论研究抵抗电子束罩写入中的加热效果
机译:组合对基于HF_AL_(1-X)O_Y基于RRAM装置的电阻切换的综合研究,组合溅射
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:用事件相关的潜在技术研究移情和情感对利益冲突处理的组合影响
机译:基于层次分析法的组合风电场系统集成与电阻sFCL的多目标优化